福州供應(yīng)AOT光催化紫外線消毒設(shè)備怎么樣

價(jià)格面議2022-03-19 12:27:14
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福州供應(yīng)AOT光催化紫外線消毒設(shè)備怎么樣

在AOT光催化水體滅菌技術(shù)中,起主要作用的是在反應(yīng)過程中產(chǎn)生的羥基自由基·OH,羥基自由基具有強(qiáng)氧化性、高活性、非選擇性等特點(diǎn),能夠迅速將微生物等有機(jī)物降解為CO2、H2O和無機(jī)鹽。


AOT 光催化水體滅菌技術(shù),主要利用高級氧化技術(shù)中產(chǎn)生的強(qiáng)氧化性的羥基自由基(HydroxylRadical,·OH),將水中絕大部分的污染物和微生物,降解為CO2、H2O和無機(jī)鹽,并且不會(huì)產(chǎn)生二次污染,是一種綠色,安全的氧化技術(shù)。在類似于飲用水這種對處理工藝和安全性要求比較高的領(lǐng)域中有著廣闊的應(yīng)用前景 。

羥基自由基直接破壞細(xì)胞,快捷的摧毀細(xì)胞組織,將水中的細(xì)菌、病毒、微生物、有機(jī)物等迅速分解成CO2和H2O,使微生物細(xì)胞失去復(fù)活、繁殖的能力,從而達(dá)到徹底分解水中細(xì)菌、病毒、微生物、有機(jī)物等的目的。

紫外線殺菌消毒是利用適當(dāng)波長的紫外線能夠破壞微生物機(jī)體細(xì)胞中的DNA(脫氧核糖核酸)或RNA(核糖核酸)的分子結(jié)構(gòu),造成生長性細(xì)胞死亡和(或)再生性細(xì)胞死亡,達(dá)到殺菌消毒的效果。紫外線消毒技術(shù)是基于現(xiàn)代防疫學(xué)、醫(yī)學(xué)和光動(dòng)力學(xué)的基礎(chǔ)上,利用特殊設(shè)計(jì)的高效率、高強(qiáng)度和長壽命的UVC波段紫外光照射流水,將水中各種細(xì)菌、病毒、寄生蟲、水藻以及其他病原體直接殺死。

紫外線消毒是一種物理方法,它不向水中增加任何物質(zhì),沒有副作用,這是它優(yōu)于氯化消毒的地方,它通常與其它物質(zhì)聯(lián)合使用,常見的聯(lián)合工藝有UV+H2O2、UV+H2O2+O3、UV+TiO2,這樣,消毒效果會(huì)更好。

紫外線系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)學(xué)決定于以下因素:設(shè)備造價(jià)和壽命;電效率;運(yùn)行中殺菌效果的降低程度;電費(fèi)等。對于紫外線消毒系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)分析尚未做出定論,有很多結(jié)論不同的分析報(bào)道,有觀點(diǎn)認(rèn)為紫外線殺菌裝置電耗大,設(shè)備維護(hù)費(fèi)和造價(jià)較高。對于大系統(tǒng),設(shè)備投資比臭氧系統(tǒng)高,運(yùn)行費(fèi)用與臭氧相仿;但對于純凈水制造的小型系統(tǒng)投資較臭氧裝置為低。也有觀點(diǎn)認(rèn)為對于數(shù)千噸/日以上的處理規(guī)模,紫外線消毒系統(tǒng)的投資和運(yùn)行成本很具優(yōu)勢,要比加氯和臭氧消毒的花費(fèi)都低得多。例如有分析資料報(bào)道,在建造人口數(shù)為10~25000范圍的小型飲用水處理廠時(shí),紫外線、二氧化氯和臭氧消毒費(fèi)用的近似比例為1:4:(8~9),對于人口數(shù)大于500000的社會(huì)團(tuán)體,費(fèi)用比約為1:2.5:2.5。

能夠輸出足夠的UVC強(qiáng)度用于工程消毒的只有人工汞(合金)燈光源。紫外線殺菌燈燈管是由石英玻璃制成,汞燈根據(jù)點(diǎn)亮后的燈管內(nèi)汞蒸氣壓的不同和紫外線輸出強(qiáng)度的不同,分為三種:低壓低強(qiáng)度汞燈、中壓高強(qiáng)度汞燈和低壓高強(qiáng)度汞燈。

大多數(shù)紫外線裝置利用傳統(tǒng)的低壓紫外燈技術(shù),也有一些大型水廠采用低壓高強(qiáng)度紫外燈系統(tǒng)和中壓高強(qiáng)度紫外燈系統(tǒng),由于產(chǎn)生高強(qiáng)度的紫外線可能使燈管數(shù)量減少90%以上,從而縮小了占地面積,節(jié)約了安裝和維修費(fèi)用,并且使紫外線消毒法對水質(zhì)較差的出水也適用。

使用方法
2.3.5.1 對物品表面的消毒
(1)照射方式:最好使用便攜式紫外線消毒器近距離移動(dòng)照射,也可采取紫外燈懸吊式照射。對小件物品可放紫外線消毒箱內(nèi)照射。
(2)照射劑量和時(shí)間:不同種類的微生物對紫外線的敏感性不同,用紫外線消毒時(shí)必須使用照射劑量達(dá)到殺滅目標(biāo)微生物所需的照射劑量。
殺滅一般細(xì)菌繁殖體時(shí),應(yīng)使照射劑量達(dá)到 10000 uW.s/CM2;殺滅細(xì)菌芽胞時(shí)應(yīng)達(dá)到100000 uW.s/CM2;病毒對紫外線的抵抗力介于細(xì)菌繁殖體和芽胞之間;真菌抱子的抵抗力比細(xì)菌芽胞更強(qiáng),有時(shí)需要照射到以對600000 uW.s/CM2;在消毒的目標(biāo)微生物不詳時(shí),照射劑量不應(yīng)低于100000 uW.s/CM2。

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