光刻膠原料化驗(yàn) 成分分析 配方鑒定

*概述*

光刻膠是一種通過光化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移的功能性材料，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、顯示面板和微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）等領(lǐng)域。其核心功能是將掩膜版上的微細(xì)圖形轉(zhuǎn)移到基片表面，分辨率可達(dá)納米級(jí)。

*原料與成分*
樹脂（基體材料）
正膠：酚醛樹脂或聚羥基（PHOST），占比50%-80%，決定機(jī)械性能和化學(xué)穩(wěn)定性。
負(fù)膠：環(huán)化橡膠（如聚）或環(huán)氧樹脂，曝光后形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)。

光敏化合物（PAC）
正膠：重氮萘醌（DNQ），光照后生成羧酸，增強(qiáng)溶解性。
負(fù)膠：雙疊氮化物（如2,6-雙疊氮芐叉-4-甲基），引發(fā)交聯(lián)反應(yīng)。

溶劑
丙二醇酯（PGMEA，占60%-90%）、等，確保均勻涂布。

添加劑
增粘劑（偶聯(lián)劑）、抗反射染料（如苯并三唑）、表面活性劑等，優(yōu)化性能。

*典型配方*
正膠：酚醛樹脂60% + DNQ 20% + PGMEA 20%高分辨率，適合亞微米制程
負(fù)膠：環(huán)化橡膠50% + 雙疊氮交聯(lián)劑5% + 45%抗蝕性強(qiáng)，適用于厚膠工藝

*工作原理*
正膠：
曝光區(qū)DNQ發(fā)生Wolff重排反應(yīng)，生成羧酸，溶于堿性顯影液，未曝光區(qū)保留。

負(fù)膠：
曝光區(qū)光敏劑產(chǎn)生自由基或酸，引發(fā)樹脂交聯(lián)固化，未曝光區(qū)被溶解。