第三方檢測機構(gòu)-天津晶圓級FIB制樣TEM/SEM分析

【FinFET結(jié)構(gòu)原子級表征案例】

FinFET作為先進制程核心結(jié)構(gòu)，其柵極寬度與界面質(zhì)量直接影響芯片性能。通過DB-FIB制備FinFET超薄切片，利用TEM獲得原子級形貌與晶格圖像。案例顯示，我們成功解析了3nm芯片中Fin的側(cè)壁粗糙度、柵氧層厚度與界面缺陷，為客戶提供工藝優(yōu)化依據(jù)?！緩V電計量SEM/TEM測試服務(wù)】涵蓋晶圓級制造與失效分析，結(jié)合EDS進行成分映射，全面支撐高端芯片研發(fā)與量產(chǎn)。

【FIB窗簾效應(yīng)消除技術(shù)優(yōu)勢】
窗簾效應(yīng)是FIB制樣中常見的圖像偽影問題，影響TEM觀察精度。廣電計量擁有專利技術(shù)，通過優(yōu)化離子束掃描策略與樣品傾轉(zhuǎn)，有效消除該效應(yīng)。該方法已應(yīng)用于多種敏感材料，如有機半導體與鋰電電極，獲得無失真高分辨圖像。【廣電計量電鏡掃描測試】持續(xù)創(chuàng)新制樣工藝，確保每一份TEM數(shù)據(jù)的真實性與可靠性。

【熱敏感型TEM樣品框架結(jié)構(gòu)法制備】
針對鋰電材料、石墨烯電極等熱敏感樣品，新型框架結(jié)構(gòu)法DB-FIB制樣技術(shù)通過構(gòu)建支撐框架，避免離子束輻照導致的結(jié)構(gòu)熔融或相變，確保超薄切片的完整性。該服務(wù)按小時計費，已成功應(yīng)用于多家新能源企業(yè)與科研機構(gòu)，推動新材料研發(fā)與性能優(yōu)化。【廣電計量SEM/TEM測試服務(wù)】

【FIB倒切法制備TEM樣品的創(chuàng)新實踐】
FIB倒切法是一種高效制備橫截面樣品的工藝，尤其適用于多層結(jié)構(gòu)芯片。通過倒切技術(shù)，精準暴露目標界面，避免正面加工帶來的損傷。該方法已應(yīng)用于先進封裝、TSV通孔等場景，提升制樣效率與成功率?！緩V電計量電鏡掃描測試】持續(xù)優(yōu)化工藝參數(shù)，為客戶提供更經(jīng)濟、更快速的TEM制樣選擇。

【3nm國產(chǎn)芯片分析案例與行業(yè)影響】
近期，成功完成3nm國產(chǎn)手機處理器芯片的晶圓級FIB-TEM分析，解析其FinFET與金屬互聯(lián)結(jié)構(gòu)，助力客戶突破技術(shù)瓶頸。該案例彰顯我們在先進制程領(lǐng)域的領(lǐng)先能力，并獲得央視報道關(guān)注?！緩V電計量SEM/TEM測試服務(wù)】以原子級表征與全產(chǎn)業(yè)鏈服務(wù)，為中國半導體自主創(chuàng)新提供堅實支撐。

【廣電計量綜合服務(wù)優(yōu)勢總結(jié)】
作為國內(nèi)規(guī)模最大的國有第三方檢測上市公司，以DB-FIB與TEM為核心，整合專利技術(shù)、先進設(shè)備與資深團隊，提供高精度、高時效的分析服務(wù)。我們堅持客戶為中心，具備從常規(guī)制樣到復雜故障診斷的全流程能力，覆蓋半導體、新能源、科研等多領(lǐng)域?！緩V電計量電鏡掃描測試】通過持續(xù)創(chuàng)新與生態(tài)協(xié)同，正助力中國芯崛起，成為全球半導體檢測的頭部機構(gòu)。