產(chǎn)學(xué)研合作-重慶晶圓級(jí)FIB制樣TEM/SEM分析

【DB-FIB TEM超薄樣品切片服務(wù)】

雙束聚焦離子束（DB-FIB）顯微鏡是制備透射電子顯微鏡（TEM）超薄樣品的核心工具?！緩V電計(jì)量SEM/TEM測(cè)試服務(wù)】針對(duì)硅基芯片提供截面（XS）與平面（PV）制樣服務(wù)，覆蓋14nm及以下先進(jìn)制程至55nm等傳統(tǒng)節(jié)點(diǎn)。通過(guò)高精度離子束濺射，我們實(shí)現(xiàn)納米級(jí)薄片切割，厚度可控制在100nm以內(nèi)，確保電子束穿透并獲取高分辨圖像。該服務(wù)廣泛應(yīng)用于芯片工藝驗(yàn)證、缺陷定位與材料分析，尤其適用于FinFET、金屬互聯(lián)等關(guān)鍵結(jié)構(gòu)的表征。廣電計(jì)量擁有標(biāo)準(zhǔn)化流程與CNAS認(rèn)證平臺(tái)，保障制樣效率與數(shù)據(jù)可靠性，助力客戶突破制程瓶頸。

【3D TEM法在芯片失效分析中的創(chuàng)新】
3D TEM法通過(guò)連續(xù)切片與圖像重構(gòu)，實(shí)現(xiàn)芯片缺陷的三維可視化。將DB-FIB與TEM結(jié)合，應(yīng)用于熱點(diǎn)、孔洞、裂紋等立體缺陷分析。案例中，我們通過(guò)該方法成功定位某一先進(jìn)制程芯片的層間短路點(diǎn)，為客戶提供立體失效機(jī)制報(bào)告?！緩V電計(jì)量SEM/TEM測(cè)試服務(wù)】不僅提升分析深度，還縮短診斷周期，成為復(fù)雜故障排查的利器。

【FIB窗簾效應(yīng)消除技術(shù)優(yōu)勢(shì)】
窗簾效應(yīng)是FIB制樣中常見(jiàn)的圖像偽影問(wèn)題，影響TEM觀察精度。廣電計(jì)量擁有專(zhuān)利技術(shù)，通過(guò)優(yōu)化離子束掃描策略與樣品傾轉(zhuǎn)，有效消除該效應(yīng)。該方法已應(yīng)用于多種敏感材料，如有機(jī)半導(dǎo)體與鋰電電極，獲得無(wú)失真高分辨圖像?！緩V電計(jì)量電鏡掃描測(cè)試】持續(xù)創(chuàng)新制樣工藝，確保每一份TEM數(shù)據(jù)的真實(shí)性與可靠性。

【脆性材料FIB階梯減薄技術(shù)應(yīng)用】
碳化硅、氮化鋁等脆性材料在FIB加工中易開(kāi)裂，影響制樣成功率。采用階梯減薄法，通過(guò)逐層濺射與低劑量拋光，控制應(yīng)力集中，獲得完整超薄切片。【廣電計(jì)量電鏡掃描測(cè)試】該專(zhuān)利技術(shù)已用于功率器件與射頻元件分析，結(jié)合TEM實(shí)現(xiàn)界面與缺陷表征，為客戶提供高難度樣品的解決方案。

【FIB倒切法制備TEM樣品的創(chuàng)新實(shí)踐】
FIB倒切法是一種高效制備橫截面樣品的工藝，尤其適用于多層結(jié)構(gòu)芯片。通過(guò)倒切技術(shù)，精準(zhǔn)暴露目標(biāo)界面，避免正面加工帶來(lái)的損傷。該方法已應(yīng)用于先進(jìn)封裝、TSV通孔等場(chǎng)景，提升制樣效率與成功率?！緩V電計(jì)量電鏡掃描測(cè)試】持續(xù)優(yōu)化工藝參數(shù)，為客戶提供更經(jīng)濟(jì)、更快速的TEM制樣選擇。

【半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈檢測(cè)服務(wù)能力】
構(gòu)建從設(shè)計(jì)驗(yàn)證、晶圓制造、封裝測(cè)試到終端應(yīng)用的全產(chǎn)業(yè)鏈檢測(cè)平臺(tái)。通過(guò)DB-FIB與TEM技術(shù)，支持芯片全過(guò)程分析與可靠性提升，覆蓋“從圖紙到產(chǎn)品”的生命周期。服務(wù)獲CNAS、CMA權(quán)威認(rèn)可，項(xiàng)目數(shù)量行業(yè)領(lǐng)先，【廣電計(jì)量SEM/TEM測(cè)試服務(wù)】成為國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體生態(tài)中不可或缺的第三方力量。