華諾mask掩模版,不銹鋼金屬狹縫掩模版

500元2022-12-11 08:22:32
  • 北京華諾恒宇光能科技有限公司
  • 掩膜版
  • 金屬微孔狹縫掩模板,掩膜版價(jià)格,304不銹鋼叉指電極掩膜板,掩膜版報(bào)價(jià)及圖片
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加工周期 最快12小時(shí)出貨 掩膜板材質(zhì) 不銹鋼、鉭片、各種薄膜等可按客戶要求定制
掩膜版別名 掩膜板、光罩、mask、FMM 掩膜版加工精度 最小10um
掩膜版尺寸 最大600*600mm 掩膜版材質(zhì)厚度 最薄加工厚度0.03mm
特色要求 需要和客服具體溝通  

華諾mask掩模版,不銹鋼金屬狹縫掩模版

掩膜版的加工種類：
華諾激光長(zhǎng)期供應(yīng)高精度電極掩模板加工制作，不銹鋼掩膜板，精密金屬非金屬掩模板制作，非金屬掩膜板制作，微孔掩膜板制作，光刻直寫掩膜板制作 金屬和非金屬掩膜板制作加工，掩膜板小孔可做到50微米，精度也可做到20微米，掩膜板刻線，小線寬可做到20微米，價(jià)格實(shí)惠，量大從優(yōu)。


掩膜版材料及厚度的選?。?br /> 材質(zhì)的選取方面，我們選用高韌性的SUS304 H不銹鋼材料，這樣做出來的掩膜版不但精度高，而且表面光滑，產(chǎn)品不易受彎折而變形，經(jīng)久耐用，同時(shí)還能夠讓掩膜版板與器件保持很緊密的貼合，減少陰影效果。

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡(jiǎn)稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備，如激光直寫光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。

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