離子滲氮：活性屏離子氮化

活性屏離子氮化技術是在普通離子滲氮爐中安裝一個鐵籠，將被處理的工件罩在鐵籠內(nèi)，將原來連接在工件上的DC負高壓接到鐵籠上，鐵籠產(chǎn)生輝光放電，被處理的工件處于電懸浮狀態(tài)或連接在-100 ~-200伏的DC負偏壓下。

活性屏離子氮化技術的發(fā)明者認為，鐵籠在滲氮過程當中主要起兩個作用：一是起加熱源的作用；第二，粒子起氮化載體的作用。在活性屏離子氮化過程當中，離子直接轟擊的是保持架而不是工件表層，因此DCPN技術中存在的工件電弧、空心陰極效應、電場效應、大小工件不可混合、工件溫度不均勻、工件溫度測量困難等技術問題。并且對操作員的要求大大下降。

盡管大家對活性屏離子氮化的機理有不同的解釋和看法，但有一點是一致的，即離子轟擊陰極濺射的粒子是實現(xiàn)活性屏離子氮化的關鍵材料。對于工業(yè)規(guī)模的活性屏離子氮化設備，問題是如何將從保持架濺射的顆粒輸送到遠離保持架的工件表層。
活性屏離子氮化技術的發(fā)明者認為，通過保持架的氣流將濺射的顆粒從保持架吹到工件表層，從而實現(xiàn)滲氮，因此早期活性屏離子氮化設備的保持架周圍有許多圈氣體分布管，因此活性屏離子氮化技術也稱為TC技術。目前，大多數(shù)公司生產(chǎn)的活性屏離子滲氮設備沒有配備這種多環(huán)配氣管。