PVD鍍膜機(jī)分層技術(shù)

　　1.PVD鍍膜機(jī)陰極電弧過濾:電磁過濾系統(tǒng)配備離子源，可過濾掉等離子體中產(chǎn)生的宏觀顆粒和離子。磁過濾后沉積顆粒的電離率為100%，顆粒可以被過濾掉。因此，所制備的薄膜非常致密光滑，具有良好的耐腐蝕性，并且具有非常強(qiáng)的車身附著力。

　　2.PVD鍍膜機(jī)增強(qiáng)型磁控管陰極電弧:陰極電弧技術(shù)在真空條件下通過低電壓、大電流將靶材去離子成離子狀態(tài)，從而完成薄膜材料的沉積。增強(qiáng)型磁控管陰極電弧可以通過電磁場(chǎng)的相互作用，有效控制靶材表層的電弧，使材料具有更高的電離速率和更好的薄膜性能。

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　　3.PVD鍍膜機(jī)離子束:碳?xì)錃怏w在離子源中電離成等離子體，在電磁場(chǎng)的共同作用下，碳離子從離子源中釋放出來。離子束的能量通過調(diào)節(jié)施加到等離子體的電壓來控制。當(dāng)將碳?xì)潆x子束引入襯底時(shí)，沉積速率與離子電流密度成比例。PVD鍍膜機(jī)的離子束源采用高電壓、大離子能量，使薄膜與基體結(jié)合良好。離子電流越大，類金剛石薄膜的沉積速度越快。離子束技術(shù)的主要優(yōu)勢(shì)在于沉積超薄多層結(jié)構(gòu)，工藝控制精度可達(dá)數(shù)埃，工藝中顆粒污染造成的缺點(diǎn)可降至低。

　　4.PVD鍍膜機(jī)磁控濺射:在真空環(huán)境下，在電壓和磁場(chǎng)的共同作用下，離子化的惰性氣體離子轟擊靶材，使靶材以離子、原子或分子的形式噴射沉積在襯底上，形成薄膜。導(dǎo)電和不導(dǎo)電材料都可以濺射成靶，這取決于所用的電離電源。