光學(xué)冷加工工藝描述

　　目前，氧化鈰(Ce02)是用于拋光玻璃透鏡的主要拋光粉，拋光液的比例隨著拋光時(shí)間的不同而不同。通常，在拋光的初始階段和當(dāng)透鏡與拋光模具閉合時(shí)，使用較高濃度的拋光液。鏡片表層光亮后，使用濃度較低的拋光液，避免鏡面出現(xiàn)橘皮現(xiàn)象(鏡片表層霧化)。

　　光學(xué)冷加工與拋光磨削所用的運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)相同，只是拋光工具與工作液不同，拋光時(shí)所需的環(huán)境條件也比磨削時(shí)嚴(yán)格。拋光過程當(dāng)中的一般注意事項(xiàng)如下:

　　1.光學(xué)冷加工拋光前需要確定鏡片表層是否有打磨后留下的劃痕或刺孔。

　　2.光學(xué)冷加工拋光工具的尺寸和材質(zhì)是否合適。

　　3.光學(xué)冷加工在拋光過程當(dāng)中，我們需要時(shí)刻注意鏡片表層的狀況和精度檢驗(yàn)。對(duì)于鏡片表層缺點(diǎn)的檢驗(yàn)，由于檢驗(yàn)過程是靠個(gè)人的眼光和方法來判斷的，檢驗(yàn)人員要對(duì)劃痕和砂眼的規(guī)格有深入的了解，要經(jīng)常對(duì)照劃痕和砂眼的標(biāo)準(zhǔn)樣品，以保證檢驗(yàn)的準(zhǔn)確性。

　　4.光學(xué)冷加工修正

　　拋光過程當(dāng)中應(yīng)適當(dāng)加入拋光液。拋光液太少，參與作用的拋光粉顆粒減少，下降了拋光效率。拋光液過多，部分拋光粉顆粒不參與工作，同時(shí)帶來大量液體下降玻璃邊緣表層溫度，影響拋光效率。拋光液的濃度也要合適。濃度過低，即水分過多，參與工作的拋光粉顆粒減少，玻璃表層溫度下降，從而下降拋光效率。濃度過高，即水分帶少，影響拋光壓力，拋光粉不可快速均勻行走，造成各部位壓力不均，造成局部多磨，影響拋光孔徑(條紋)質(zhì)量。而且單位面積壓力下降，效率下降，拋光過程當(dāng)中產(chǎn)生的碎屑不可順利去除，使工件表層粗糙。