設(shè)備機架制作中拋光工藝原理及分類

　設(shè)備機架制作中拋光工藝是利用物理機械或化學物質(zhì)來下降表層粗糙度的工藝。拋光技術(shù)主要應用于精密機械和光學行業(yè)。拋光后的工件表層光滑，反光好。拋光后工件厚度下降，容易劃傷，表層需要用專用清洗劑清洗。

　　一、設(shè)備機架制作中拋光工藝原理

　　設(shè)備機架制作化學拋光原理

　　化學拋光是通過有規(guī)律的溶解來拋光金屬表層的過程。在化學拋光過程當中，鋼件表層不斷形成鈍化氧化膜和氧化膜，前者比后者更強。由于表層微觀結(jié)構(gòu)的不一致性，表層的凸面部分優(yōu)先溶解，且溶解速率高于凹面部分。此外，溶膜和成膜總是在同一時間進行，但速度不同。因此，鋼件的表層粗糙度可以被拉平，從而獲得光滑明亮的表層。拋光可以填補表層氣孔、劃痕等表層缺點，提高抗疲勞和耐腐蝕能力。

　　設(shè)備機架制作電化學拋光原理

　　電化學拋光又稱電解拋光。電解拋光是將工件拋作陽極，不溶金屬作陰極，兩極同時浸入電解池中，通過直流電產(chǎn)生挑選性陽極溶解，使工件表層亮度增加，達到鏡面效果。

　　二、設(shè)備機架制作中拋光工藝分類

　　設(shè)備機架制作機械拋光

　　機械切削、拋光是依靠材料表層塑性變形去除后通過拋光去除凸面部分的光滑表層的方法，常用的物品有油石、毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如固體表層的旋轉(zhuǎn)，可以使用轉(zhuǎn)臺等工具，表層質(zhì)量高的可采用超碾磨法。超精拋光是利用專用碾磨工具，含有碾磨拋光液，壓在工件表層進行加工，進行高速旋轉(zhuǎn)運動。采用該工藝可獲得Ra0.008μm的表層粗糙度，是所有拋光方法中表層粗糙度高。這種方法常用于光學透鏡模具。其優(yōu)點是平整性好，被加工零件亮度高。

　　設(shè)備機架制作化學拋光

　　化學拋光是讓材料在化學介質(zhì)表層的微觀凸部分優(yōu)先溶解凹部分，從而獲得光滑表層。該方法的主要優(yōu)點是不需要復雜的設(shè)備，可以拋光復雜形狀的工件，可以同時拋光多個工件，效率高。其優(yōu)點是加工設(shè)備投資少，復雜件可拋，速度快，效率高，耐腐蝕性好。

　　設(shè)備機架制作電解拋光

　　電解拋光的基本原理與化學拋光相同，都是通過挑選性溶解材料表層微小突起的部分，使表層光滑。電化學拋光過程分為兩個步驟:(1)宏觀平整溶解產(chǎn)物擴散到電解液中，材料表層變得粗糙而減少，Ra>1微米。(2)弱光陽極化，表層亮度增加，Ra<1微米。其優(yōu)點是鏡面光澤度長，工藝穩(wěn)定，污染少，成本低，耐腐蝕性好。