光學(xué)廠家：光學(xué)鍍膜的原理

　　光學(xué)廠家：光干涉廣泛應(yīng)用于薄膜光學(xué)器件中。光學(xué)鍍膜技術(shù)常用的方法是通過真空濺射在玻璃基板上鍍一層薄膜。光學(xué)鍍膜通常用于控制基底對(duì)入射光束的反射率和透射率，以滿足不同的要求。為了消除光學(xué)元件表層的反射損失，提高成像質(zhì)量，需要鍍一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為增透膜或抗反射膜。

　　光學(xué)廠家：光學(xué)鍍膜隨著激光技術(shù)的發(fā)展，對(duì)薄膜的反射率和透過率提出了不同的要求，促進(jìn)了多層高反膜和寬帶增透膜的發(fā)展。對(duì)于各種應(yīng)用需求，高反射膜用于制造偏振反射膜、分色膜、冷光膜、干涉濾光片等。

　　光學(xué)廠家告訴你，光學(xué)元件表層鍍膜后，光學(xué)鍍膜在鍍膜上多次反射和透射，從而形成多光束干涉。通過控制涂層的折射率和厚度，可以獲得不同的強(qiáng)度分布。這就是干涉鍍膜的基本原理。

　　涂層的折射率、吸收率和激光損傷閾值等光學(xué)性能主要取決于涂層的微觀結(jié)構(gòu)。材料、殘余氣壓和襯底溫度都會(huì)影響薄膜的微結(jié)構(gòu)。如果基底表層上的氣相沉積原子的遷移率低，涂層將包含微孔。當(dāng)薄膜暴露在潮濕的空氣中時(shí)，這些孔會(huì)逐漸充滿水蒸氣。例如柱面鏡。

　　光學(xué)廠家告訴你，堆積密度定義為薄膜固體部分的體積與薄膜總體積(包括空隙和微孔)的比值。對(duì)于光學(xué)鍍膜，光學(xué)冷加工的體積密度通常為0.75 ~ 1.0.多為0.85 ~ 0.95.很少達(dá)到1.0.光學(xué)冷加工的體密度小于1.使得蒸發(fā)材料的折射率低于體材料的折射率。