蒸發(fā)鍍膜設(shè)備成膜不均的原因

隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展，各種真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備逐漸出現(xiàn)。無論哪種真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，薄膜的均勻性都會(huì)受到一些因素的影響?，F(xiàn)在，我們用磁控濺射鍍膜機(jī)來分析成膜不均勻的因素。涂布機(jī)泵送不均勻會(huì)影響涂布均勻性。基底干凈很重要。真空鍍膜前，應(yīng)仔細(xì)清理基材表層，以達(dá)到工件除油、去污、脫水的目的?；谋韺游廴緛碓从诟鞣N灰塵、油脂、拋光膏、汗?jié)n等。在加工和運(yùn)輸過程當(dāng)中附著在零件上。在潮濕的環(huán)境中，基材表層容易氧化，形成氧化膜吸收氣體。這些污漬可以通過除油或化學(xué)方法來清除。干凈的基板不應(yīng)直接放在外面，而應(yīng)儲(chǔ)存在封閉的容器中，以減少污染?；覊m會(huì)堆積在涂裝室，所以清理涂裝室，烘烤和脫氣，并將機(jī)器放置在干凈的環(huán)境中。注意擴(kuò)散泵的回油。涂料的原料有很多，如樹脂、有機(jī)硅、硅酸、聚合物等。輔料配比和配方不同，薄膜也不同。
涂布機(jī)的熱蒸發(fā)系統(tǒng)主要是指成膜裝置。涂布機(jī)中有許多成膜裝置，包括電阻加熱、電子槍蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等。我們將介紹電阻加熱和電子槍蒸發(fā)這兩種方法，因?yàn)檫@兩種方法被我們廣泛使用。從其結(jié)構(gòu)和工作原理來看，蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的電阻蒸發(fā)是目前應(yīng)用最廣泛的蒸發(fā)方式，也是應(yīng)用時(shí)間最長(zhǎng)的蒸發(fā)方式。
它的工作方式是將鎢片制成舟，然后安裝在兩個(gè)電極之間，在舟的中心加入藥材，然后慢慢給電極通電。電流通過船，船通電加熱。這些低電壓和高電流使得具有高熔點(diǎn)的舟產(chǎn)生熱量，然后熱量被傳導(dǎo)到涂層材料。當(dāng)舟的熱量高于涂層材料的熔點(diǎn)時(shí)，材料會(huì)升華或蒸發(fā)。該方法操作方便，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，成本低廉，易于使用。當(dāng)鎢舟蒸發(fā)涂層材料時(shí)，材料的熔點(diǎn)必須低于鎢舟的熔點(diǎn)，否則無法進(jìn)行。
真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備為什么要配冷水機(jī)？
這要從真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的工作原理來看:膜料在高溫下蒸發(fā)，落到工件表層結(jié)晶。因?yàn)榭諝鈺?huì)對(duì)蒸發(fā)的薄膜分子產(chǎn)生阻力，從而引起碰撞，使晶體變得粗糙、暗淡，所以需要在高真空下使晶體變得細(xì)小、光亮。真空度不高，晶體會(huì)失去光澤，結(jié)合力差。冷水機(jī)組配有制冷系統(tǒng)和冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，水溫可在5℃ ~ 30℃范圍內(nèi)調(diào)節(jié)控制，可達(dá)到高精度、高效率控溫的目的。冷卻原理是:冷卻系統(tǒng)將水冷卻，然后低溫冷卻水由水泵送至真空鍍膜機(jī)冷卻。水冷器的冷凍水帶走熱量，升溫后流回水箱，達(dá)到冷卻效果。